GA-5000nao型 氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)

產(chǎn)品概述：

    GA-5000nao氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)（NH3、NO、O2）基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）和紫外差分吸收光譜（DOAS）技術(shù)原理。系統(tǒng)包括預處理、氣體分析模塊和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。被測氣體經(jīng)過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進入高溫氣體分析模塊（TDLAS+DOAS技術(shù)）分析測量。有效的解決了銨鹽低溫結(jié)晶堵塞流路，冷凝水析出溶解NH3導致的測量精度偏低，原位式系統(tǒng)高粉塵衰減光路導致無法測量等技術(shù)難題。

GA-5000nao型 氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)

技術(shù)規(guī)格：

測量技術(shù)：可調(diào)諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)

          紫外差分吸收光譜 （DOAS）技術(shù)+氧化鋯

量程范圍：

Nh3：0～10～1000ppm

No：0～50～5000ppm 

O2：0～25%

線性誤差：≤±1%F.S.

重復性：≤1%

零點漂移：≤±1%F.S./半年

量程漂移：≤±1%F.S./半年

響應時間：＜90s（T90）

模擬量輸出：5路4-20mA輸出

模擬量輸入：3路4-20mA輸入

數(shù)字通訊：RS485/RS232/GPRS

檢測下限：0.1ppm（10m光程）

吹掃氣源：（0.4～0.8）MPa氮氣、凈化儀表空氣

產(chǎn)品特點：

“單線光譜”吸收技術(shù)避免背景氣體干擾、檢測下限低、量程漂移小

220℃以上伴熱避免銨鹽結(jié)晶及水份吸收

結(jié)構(gòu)緊湊、便于安裝，自動化程度高、維護量小

多參數(shù)集成于同一系統(tǒng)，同時測量成本低

產(chǎn)品應用：

適用于包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監(jiān)測和過程控制